現在市販されているレーザー溶接機は、制御特性として電流負帰還型とレーザー出力負帰還型の2つに大別されます。
電流負帰還とは、レーザー励起キセノンランプの電流を制御し、キセノンランプの電流を常に一定に保つ制御方法です。 しかし、レーザー出力は励起キセノンランプの電流に直線的に比例せず、励起キセノンランプを使用すると電気光変換効率が大幅に低下し、出力レーザーエネルギーが低下し、溶接効果の一貫性に影響を与えます。
レーザーパワーの負のフィードバックは、レーザーキャビティの出力に光検出器を追加し、検出されたレーザーパワーと必要なレーザーパワーを比較して、キセノンランプのポンピング電流の大きさを制御する制御方法です。 レーザーパワーの負のフィードバックは、リアルタイムの負のフィードバックと非リアルタイムの負のフィードバックに分けられます。 リアルタイム負帰還は、検出されたレーザー パワーとレーザー パワー パルス内の必要なレーザー パワーを比較し、キセノン ランプのポンピング電流の大きさを制御する制御方法です。 非リアルタイム負帰還は、前のパルスによって検出されたレーザー出力波形と設定された波形を比較し、次のパルスのレーザーパルスキセノンランプの電流の大きさを決定する制御方法です。
現在の負帰還制御と比較して、レーザーパワー負帰還を使用すると、出力レーザーエネルギーの制御精度が大幅に向上し、特に量産に適しています。
